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电子、电容器生产企业用超纯水设备

2016/9/3 10:51:32

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详细介绍

湖南/江西/长沙、湘潭、益阳电容器生产用超纯水设备

     电容器在生产清洗过程中为什么需要用到超纯水设备,在电容器生产中,超纯水主要用作清洗用水及用来配制各种溶液、浆料。 超级电容器生产工艺过程中的78%的工序需要使用超纯水清洗产品,超纯水水质的好坏与超级电容器的成品质量及生产成品率关系很大。水中 的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良,重金属(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低,Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化,Ⅴ族 元素(P、As、Sb等)会使P型触摸屏特性恶化,水中细菌高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使超级电容器上的局部区域变为N型硅而导致器 件性能变坏,水中的颗粒(包括细菌)如吸附在触摸屏表面,就会引起产品特性变差。
     生产的超级电容器产品清洗EDI超纯水设备在设备设计上,采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级RO+EDI+抛光混床除盐水处理工艺 ,确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自 动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高 的性价比和设备可靠性。具体工艺如下:
预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象(≥18MΩ .CM)(最新工艺)
     株洲鑫泰公司生产超级电容器清洗用超纯水出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm 、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准)、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、 国内外大规模集成电路水质标准


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